SK하이닉스는 메모리 업계 최초로 양산용 차세대 D램 생산장비를 이천 공장에 반입했다고 밝혔습니다.
이어 새 장비(High NA EUV)는 해상도를 크게 높인 차세대 노광 장비로 현존 장비 가운데 가장 미세한 회로 패턴 구현이 가능하다고 설명했습니다.
SK하이닉스는 이 장비로 공정을 단순화하고 차세대 메모리 개발에 속도를 높여 제품 성능과 원가 경쟁력을 동시에 확보하겠다고 강조했습니다.
YTN 최아영 (cay24@ytn.co.kr)
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